有机源蒸镀系统
发布时间：2022-12-08 浏览量：
仪器名称及型号：有机源蒸镀系统（LN-1060F）
仪器介绍：有机源蒸镀系统（LN-1060F）该设备是有机光电半导体器件和功能纳米器件制备的重要设备。途主要用于有机薄膜和金属薄膜/电极的蒸镀，单层及多层功能薄膜材料的蒸镀，有机OLED和OPV器件的制备和研究，配备六个有机蒸镀源
应用范围：
主要用于有机薄膜和金属薄膜/电极的蒸镀，单层及多层功能薄膜材料的蒸镀，有机OLED和OPV器件的制备和研究
功能参数样品台转速：最高转速120rmp;基片温度范围：室温至200 ℃；
，系统的极限压强可达≤1x10-7Torr；六个有机蒸镀源， 衬底尺寸最大100*100mm
放置位置：大连化物所河口科技园105室
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